Ditapis dengan
Ditemukan 1 dari pencarian Anda melalui kata kunci: author="Ralph Schefflan"
Teach Yourself the Basics of Aspen Plus second edition
Digunakan untuk berbagai tugas ilmiah penting, perangkat lunak Aspen Plus adalah alat pemodelan yang digunakan untuk desain konseptual, pengoptimalan, dan pemantauan kinerja proses kimia. Setelah lebih dari dua puluh tahun, ini tetap menjadi salah satu program teknik kimia paling populer dan kuat yang digunakan baik secara industri maupun akademis. Ajari Diri Anda Dasar-Dasar Aspen Plus, Edi…
- Edisi
- Second Edition
- ISBN/ISSN
- 978-1-118-98059-0
- Deskripsi Fisik
- 257 hlm, 25 cm
- Judul Seri
- -
- No. Panggil
- 660.2 SCH t
Karya Umum 
Filsafat 
Agama 
Ilmu-ilmu Sosial 
Bahasa 
Ilmu-ilmu Murni 
Ilmu-ilmu Terapan 
Kesenian, Hiburan, dan Olahraga 
Kesusastraan 
Geografi dan Sejarah